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22 nanômetros

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Este artigo ou secção deverá ser fundido com Fabricação de dispositivos semicondutores. (desde março de 2019)
(por favor crie o espaço de discussão sobre essa fusão e justifique o motivo aqui; não é necessário criar o espaço em ambas as páginas, crie-o somente uma vez. Perceba que para casos antigos é provável que já haja uma discussão acontecendo na página de discussão de um dos artigos. Verifique ambas (1, 2) e não esqueça de levar toda a discussão quando levar o caso para a central.)
Fabricação
de dispositivos
semicondutores

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  • 10 µm – 1971
  • 3 µm - 1974
  • 3 µm - 1977
  • 1,5 µm - 1982
  • 1 µm - 1985
  • 800 nm - 1989
  • 600 nm - 1994
  • 350 nm - 1995
  • 250 nm - 1997
  • 180 nm - 1999
  • 130 nm - 2001
  • 90 nm - 2004
  • 65 nm - 2006
  • 45 nm - 2008
  • 32 nm - 2010
  • 22 nm - 2012
  • 14 nm - 2014
  • 10 nm - 2016
  • 7 nm - 2018
  • 5 nm - 2020

A fabricação de dispositivos semicondutores de 22 nanômetros (22 nm) é a tecnologia seguinda a de 32 nm. A tecnologia de 22 nm foi alcançada em dispositivos por empresas de semicondutores em 2012.[1]

Referências

  1. Intel 22 nm Disponível em <http://www.intel.com/content/www/us/en/silicon-innovations/intel-22nm-technology.html>. Acesso em 24 de maio de 2015. (em inglês)


Precedido por:
32 nm
processos de fabricação CMOS Sucedido por:
14 nm
  • Portal da ciência



Outros artigos do tema Ciência : Departamento de Ciências Humanas do Campus I da Universidade do Estado da Bahia, Cerâmica de engenharia, Exploração do espaço de projeto, Dominio NT, Cronologia da descoberta dos elementos químicos, Romildo Póvoa Faria, UniEvangélica


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